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NTE-4000(M)熱蒸發(fā)系統(tǒng):NTE-4000是PC控制的立式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)...
NTE-3500(A)全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng):全自動(dòng)立式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝特點(diǎn)。具有...
NTE-3500(M)熱蒸發(fā)系統(tǒng):NTE-3500是PC控制的緊湊型立式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及...
NTE-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng):NTE-3000是PC控制的臺(tái)式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝...
NPE-4000(ICPA)全自動(dòng)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可達(dá)6" 基片...
NPE-4000(ICPM)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片...
NPE-4000(A)全自動(dòng)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋...
NPE-4000(M)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電...
NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電極或...
NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12" 的基片.淋浴頭電極或...
NSC-4000(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng):立式自動(dòng)系統(tǒng),帶有水冷或者加熱(Z高可加熱到700度)功能,Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...
NSC-4000(M)磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達(dá)到到8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)1...
NSC-3500(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng):立式自動(dòng)系統(tǒng),帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵...
NSC-3000(M)磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-...
NSC-1000磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-7 T...
NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī):*進(jìn)的全自動(dòng)濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱(可加熱至700度)功能;8“旋轉(zhuǎn)樣平臺(tái),可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套...
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