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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統

    SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統代表了電感耦合等離子體 (ICP) 處理的前沿技術,其最寬溫度范圍為 -150 ...
    型號: SENTECH S... 所在地:德國 參考價: 面議 更新時間:2025/6/6 8:47:43 對比
  • 開蓋等離子蝕刻系統

    等離子蝕刻系統 Etchlab 200 具有經濟高效的 RIE 直接加載的優點。SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統代表了一系列直接加載...
    型號: Etchlab 2... 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 17:43:59 對比
  • PEARD系統

    SENTECH SILAYO是一種用于光學鍍膜的等離子體增強原子層沉積(PEALD)系統,擴展了SENTECH PECVD和ALD產品組合。SENTECH SI...
    型號: SENTECH S... 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 17:40:01 對比
  • PEALD 系統

    SENTECH True Remote CCP 源可在低溫下對敏感基材和層進行均勻和保形涂層。在樣品表面提供高通量的反應性氣體種類,而沒有紫外線輻射或離子轟擊。...
    型號: SI PEALD 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 17:35:37 對比
  • ICPECVD 系統

    電感耦合等離子體 (ICP) 沉積系統,SENTECH SI 500 D 用于介電膜的高密度、低離子能量和低壓等離子體沉積,以及用于鈍化層的低損傷、低溫沉積。S...
    型號: SI 500 D 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 17:31:28 對比
  • 等離子蝕刻系統

    SENTECH SI 500 ICP-RIE等離子體蝕刻系統使用具有低離子能量的電感耦合等離子體 (ICP) 源,可實現低損傷蝕刻和納米結構。
    型號: SENTECH S... 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 17:27:46 對比
  • 等離子體蝕刻系統

    SI 500 C 代表了專為低溫蝕刻而設計的電感耦合等離子體 (ICP) 處理的前沿。SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統代...
    型號: SI 500 C 所在地:深圳市 參考價: 面議 更新時間:2025/6/5 17:26:15 對比

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