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產品特性 / Product characteristics
•高產率以及低CoO
•良好的刻蝕均一性（小于±5%/批）和再現性
•干法刻蝕
•Damage-Free（遠端等離子、低溫工藝）
•自對準接觸電阻僅為濕法的1/2
•靈活的裝置布局
•高維護性（方便的側面維護）
•300mm晶圓批處理：50枚/批
產品應用 / Product application
•自對準接觸形成工藝處理
•電鍍工藝處理
•晶膜生長處理
•Co/Ni自對準多晶硅化物的處理
產品參數 / Product parameters

1、公司介紹深圳市矢量科學儀器有限公司成立于 2020年，由武漢大學團隊孵化，致力泛半導體實驗線、中試線、生產線裝備及工藝和廠務技術服務于一體的國家高新技術企業、創新型中小企業、科技型中小企業。公司主要業務如下:裝備銷售:半導體道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試裝備、半導體光電測試儀表。設備服務:駐場或者 oncall，裝備維護、保養、售后技術支持。廠務服務:駐場或者 oncall，人力服務及廠務二次配工程。經歷五年高速發展，2023 年營業額達 3.2 億，連年復合增長率達 300%，現處于穩定擴張期。2、成長歷程•2020年（公司成立年）•2300萬訂單額2021年 7000萬訂單額2022年 2.5億訂單額2023年3.2億訂單額

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深圳市矢量科學儀器有限公司

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