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簡(jiǎn)要描述：電子束蒸鍍?yōu)橐环N物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，其中電子束是由鎢絲所產(chǎn)生的，並受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)的驅(qū)動(dòng)而朝向蒸發(fā)材料，並將其材料由固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)以沉積在基板表面上。且該過程需在高真空環(huán)境中，以通過自由路徑的方式在基板表面上形成薄膜。

電子束蒸鍍系統(tǒng)為一種物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，其中電子束是由鎢絲所產(chǎn)生的，並受到電場(chǎng)和磁場(chǎng)的驅(qū)動(dòng)而朝向蒸發(fā)材料，並將其材料由固態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)以沉積在基板表面上。且該過程需在高真空環(huán)境中，以通過自由路徑的方式在基板表面上形成薄膜。

電子束蒸鍍比熱蒸發(fā)更具有優(yōu)勢(shì)。它能夠在非常高的溫度下熔化材料，如鎢、石墨...等等。結(jié)合石英震盪片的反饋信號(hào)，可輕鬆控制蒸發(fā)速率，以調(diào)節(jié)電子束電流並蒸發(fā)更多材料而不會(huì)破壞真空。因此，電子束蒸發(fā)用於薄膜製程領(lǐng)域，包括半導(dǎo)體、光學(xué)、太陽(yáng)能電池板、玻璃和建築玻璃，因此它們具有所需的導(dǎo)電，反射，透射和電子等特性。

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