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感應耦合電漿蝕刻（ICP）蝕刻是在標準反應離子蝕刻（RIE）的基礎上，添加電感耦合電漿的。感應耦合電漿由磁場圍繞石英晶體管所提供。產生的高密度電漿被線圈包圍，將充當變壓器中的次級線圈，加速電子和離子，從而引起碰撞，產生更多的離子和電子。
高密度的電漿和低真空度增強了具有非等向性的高蝕刻速率。可以根據製程要求通過調節來自射頻發生器的直流偏壓來控制離子和電子能量。
SYSKEY的系統可以精準的控制製程氣體與電漿製程，並提供高精準度的薄膜蝕刻。
感應耦合電漿蝕刻參數
| 應用領域 | 腔體 |
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| 配置和優點 | 選件 |
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