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ALD-150LE™ 原子層沉積系統(tǒng)

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上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家專業(yè)的微納材料、半導(dǎo)體和微電子材料及器件研發(fā)儀器及設(shè)備的供應(yīng)商,所銷售的儀器設(shè)備廣泛用于高校、研究所、以及半導(dǎo)體和微電子領(lǐng)域的高科技企業(yè)。目前總部在上海,香港、南通、深圳、北京分別設(shè)立分公司和辦事處,快速響應(yīng)客戶需求。同時(shí)上海麥科威在快速擴(kuò)展海外市場(chǎng),并設(shè)立新加坡分公司,輻射東南亞市場(chǎng)。

      上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司主要銷售產(chǎn)品包括:  - 霍爾效應(yīng)測(cè)試儀;  - 快速退火爐;  - 回流焊爐,共晶爐,釬焊爐,真空燒結(jié)爐;  - 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī),熱蒸發(fā)鍍膜機(jī);  - 探針臺(tái),低溫探針臺(tái),微探針臺(tái);  - 金剛石劃片機(jī); - 球焊機(jī),鍥焊機(jī);  - 磁控濺射鍍膜機(jī);  - 原子層沉積系統(tǒng),等離子增強(qiáng)原子層沉積設(shè)備;  - 電化學(xué)C-V剖面濃度分析儀(ECV Profiler); - 掃描開爾文探針系統(tǒng); - 光學(xué)膜厚儀; -貼片機(jī)-PECVD\CVD;-脈沖激光沉積系統(tǒng)-PLD-納米壓印;-等離子清洗機(jī)、去膠機(jī);-反應(yīng)離子刻蝕RIE; - 光刻機(jī)、無掩膜光刻機(jī); - 勻膠機(jī); - 熱板,烤膠板; -少子壽命、太陽能模擬器;-NMR-瞬態(tài)能譜儀-外延沉積-等離子清洗機(jī)-離子注入-劃片機(jī)、裂片機(jī)光刻機(jī)(針尖/電子束光刻機(jī)EBL,紫外光刻機(jī),激光直寫光刻機(jī)),鍍膜機(jī)(磁控濺射機(jī),電子束蒸發(fā)機(jī),化學(xué)沉積機(jī),微波等離子沉積機(jī),原子層沉積機(jī)  等等…

企業(yè)客戶:華為技術(shù)有限公司, 深圳市鵬芯微集成電路制造, 深圳清力技術(shù), 安徽格恩半導(dǎo)體, 蘇州稀晶半導(dǎo)體科技, 矽品半導(dǎo)體, 廈門海辰新能源科科, 中核同創(chuàng)(成都)科技, 洛瑪瑞芯片技術(shù)(常州),偉創(chuàng)力科技, 奧普科星河北科技,廣東五星太陽能,廣東萬和集團(tuán),西安西測(cè)股份, 普源精電科技, 普源精電科技股份, 上海蔚來汽車, 北京華脈泰科, 廣醫(yī)東金灣高景太陽能科技, 深圳匯佳成電子, 深圳市化訊半導(dǎo)體材料, 珠海珍迎機(jī)電, 合肥鼎材科技, 山東金晶節(jié)能玻璃, 江蘇云意電氣股份, 廣東風(fēng)華技股份, 浙江中能合控股集團(tuán),固安維信諾,淮安天合光能,浙江老鷹半導(dǎo)體, 四川信通電子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大學(xué), 汕頭大學(xué), 南方醫(yī)科大學(xué), 清華大學(xué), 北京大學(xué), 復(fù)旦大學(xué), 西北工業(yè)大學(xué), 南京醫(yī)科大學(xué), 香港中文大學(xué), 香港城市大學(xué), 蘇州大學(xué), 深圳職業(yè)技術(shù)學(xué)院, 南京大學(xué)合肥國家試驗(yàn)室, 上海交通大學(xué)醫(yī)學(xué)院, 華南理工大學(xué),華東師范大學(xué),江南大學(xué),重慶26所, 深圳大學(xué), 南方科技大學(xué), 深圳技術(shù)大學(xué), 理化技術(shù)研究所, 中國工程物理研究院激光聚變研究中心, 廣東粵港澳大灣區(qū)黃埔材料研究院, 桂林電子科技大學(xué), 上海硅酸鹽研究所, 中國航天五院,中科合肥智慧農(nóng)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新研究院等。

 

 

 

 

 

 

 

 

半導(dǎo)體設(shè)備,快速退火爐,原子層沉積,鍵合機(jī),光刻機(jī)

價(jià)格區(qū)間 100萬-200萬 應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池,航空航天

Kurt J. Lesker Company (KJLC) ALD150LE™是我們但極其靈活的原子層沉積 (ALD) 系統(tǒng),專為入門級(jí)到中級(jí)用戶而設(shè)計(jì)。該ALD150LE™配置為純熱原子層沉積,工藝室設(shè)計(jì)促進(jìn)了均勻的母離子分散和輸送。加熱和溫度控制進(jìn)一步增強(qiáng)了系統(tǒng)性能。總體而言,該ALD150LE™在緊湊的設(shè)計(jì)中提供了的靈活性和性能,而不會(huì)犧牲可維護(hù)性。

該ALD150LE™配置為純熱原子層沉積,我們的垂直流設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)分離、均勻的前驅(qū)體輸送,同時(shí)降低背景雜質(zhì)水平,從而提高薄膜質(zhì)量。為避免不必要的材料在輸送通道內(nèi)積聚和顆粒形成,有兩個(gè)獨(dú)立的腔室入口可用于前驅(qū)體分離。例如,可以使用單獨(dú)的入口來分離金屬有機(jī)前體和共反應(yīng)物,以防止在輸送管線和閥門中沉積。

  • 兩個(gè)獨(dú)立的進(jìn)樣口,用于前驅(qū)體輸送,可防止輸送通道中不必要的積聚

  • 開放式裝載室經(jīng)過精心設(shè)計(jì),可最大限度地減少由于密封脫氣和滲透引起的背景雜質(zhì)

  • 獨(dú)立的基板加熱器平臺(tái)和外腔殼體,可實(shí)現(xiàn)出色的溫度控制和均勻性

  • 304L不銹鋼結(jié)構(gòu)

  • 可訪問、低維護(hù)的設(shè)計(jì)

ALD150LE™開路負(fù)載設(shè)計(jì)允許在樣品引入過程中將基物(直徑最大為 150 mm)直接放置在基板加熱器臺(tái)上。在隨后的原子層沉積(ALD)處理過程中,集中式母離子輸送和泵送建立了一個(gè)屏障,將下游腔室密封的雜質(zhì)擋在反應(yīng)區(qū)之外。彈性體腔密封件在下游的戰(zhàn)略定位可使雜質(zhì)(由于密封件釋氣和滲透)遠(yuǎn)離基材表面,從而提高 ALD 薄膜質(zhì)量。特別是,這是在開放式負(fù)載室設(shè)計(jì)中獲得高質(zhì)量氮化物膜的一個(gè)重要特征。




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