亚州一区二区三区中文字幕国产精品-日韩人妻一区二区三区蜜桃视频-亚洲中文字幕久久无码精品-午夜精品亚洲一区二区三区嫩草-日韩人妻一区二区三区蜜桃视频-国产一区二区精品高清在线观看-国产欧美日韩综合精品一区二区

官方微信|手機版

產品展廳

產品求購企業資訊會展

發布詢價單

化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>原子層沉積設備>Beneq TFS 200/500 BENEQ原子層沉積系統

分享
舉報 評價

Beneq TFS 200/500 BENEQ原子層沉積系統

具體成交價以合同協議為準

聯系方式:王先生查看聯系方式

聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


上海麥科威半導體技術有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家專業的微納材料、半導體和微電子材料及器件研發儀器及設備的供應商,所銷售的儀器設備廣泛用于高校、研究所、以及半導體和微電子領域的高科技企業。目前總部在上海,香港、南通、深圳、北京分別設立分公司和辦事處,快速響應客戶需求。同時上海麥科威在快速擴展海外市場,并設立新加坡分公司,輻射東南亞市場。

      上海麥科威半導體技術有限公司主要銷售產品包括:  - 霍爾效應測試儀;  - 快速退火爐;  - 回流焊爐,共晶爐,釬焊爐,真空燒結爐;  - 電子束蒸發鍍膜機,熱蒸發鍍膜機;  - 探針臺,低溫探針臺,微探針臺;  - 金剛石劃片機; - 球焊機,鍥焊機;  - 磁控濺射鍍膜機;  - 原子層沉積系統,等離子增強原子層沉積設備;  - 電化學C-V剖面濃度分析儀(ECV Profiler); - 掃描開爾文探針系統; - 光學膜厚儀; -貼片機-PECVD\CVD;-脈沖激光沉積系統-PLD-納米壓印;-等離子清洗機、去膠機;-反應離子刻蝕RIE; - 光刻機、無掩膜光刻機; - 勻膠機; - 熱板,烤膠板; -少子壽命、太陽能模擬器;-NMR-瞬態能譜儀-外延沉積-等離子清洗機-離子注入-劃片機、裂片機光刻機(針尖/電子束光刻機EBL,紫外光刻機,激光直寫光刻機),鍍膜機(磁控濺射機,電子束蒸發機,化學沉積機,微波等離子沉積機,原子層沉積機  等等…

企業客戶:華為技術有限公司, 深圳市鵬芯微集成電路制造, 深圳清力技術, 安徽格恩半導體, 蘇州稀晶半導體科技, 矽品半導體, 廈門海辰新能源科科, 中核同創(成都)科技, 洛瑪瑞芯片技術(常州),偉創力科技, 奧普科星河北科技,廣東五星太陽能,廣東萬和集團,西安西測股份, 普源精電科技, 普源精電科技股份, 上海蔚來汽車, 北京華脈泰科, 廣醫東金灣高景太陽能科技, 深圳匯佳成電子, 深圳市化訊半導體材料, 珠海珍迎機電, 合肥鼎材科技, 山東金晶節能玻璃, 江蘇云意電氣股份, 廣東風華技股份, 浙江中能合控股集團,固安維信諾,淮安天合光能,浙江老鷹半導體, 四川信通電子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大學, 汕頭大學, 南方醫科大學, 清華大學, 北京大學, 復旦大學, 西北工業大學, 南京醫科大學, 香港中文大學, 香港城市大學, 蘇州大學, 深圳職業技術學院, 南京大學合肥國家試驗室, 上海交通大學醫學院, 華南理工大學,華東師范大學,江南大學,重慶26所, 深圳大學, 南方科技大學, 深圳技術大學, 理化技術研究所, 中國工程物理研究院激光聚變研究中心, 廣東粵港澳大灣區黃埔材料研究院, 桂林電子科技大學, 上海硅酸鹽研究所, 中國航天五院,中科合肥智慧農業協同創新研究院等。

 

 

 

 

 

 

 

 

半導體設備,快速退火爐,原子層沉積,鍵合機,光刻機

價格區間 100萬-200萬 應用領域 電子/電池

1.產品概述:

TFS 200 是一款適用于科學研究和企業研發的靈活的 ALD 平臺。 TFS 200 是為多用戶研究環境中將可能發生的交叉污染降至低而特別設計的。

TFS 200 不僅可以在晶圓,平面物體上鍍膜,還適用于粉末,顆粒,多孔的基底材料,或是有高深徑比的3D物體內沉積高保形薄膜。                      

直接和遠程等離子體沉積 (PEALD) 可作為 TFS 200 的標準選項。等離子體是電容性耦合(CCP),這是當的工業標準。等離子體選件可為直徑200毫米的基板(面朝上或面朝下)提供直接和遠程等離子體增強沉積 (PEALD)

2.設備用途/原理:

設備用途

原子層沉積(ALD)設備主要用于半導體制造、光電子、納米技術和材料科學等領域。它廣泛應用于制造高性能電子器件、光電材料、薄膜電池、傳感器和催化劑等,能夠在復雜結構上沉積均勻且高質量的薄膜。

工作原理

ALD 設備通過交替引入兩種或多種氣相前驅體和反應氣體,以原子層的方式在基材表面沉積薄膜。每個前驅體分子在基材表面吸附并反應,形成一層薄膜,然后多余的前驅體和反應產物被清除,接著引入下一種氣體。這個過程持續進行,直到達到所需的薄膜厚度。由于每一層的沉積都受到嚴格控制,ALD 技術能實現極薄膜層的精確沉積,通常在納米級別,確保薄膜的均勻性和致密性。

3.主要技術指標:

循環周期小于2。在特定的條件下可以小于1。

高深徑比(HAR)選項適用于通孔和多孔的基底材料。

可快速加熱和冷卻的冷壁真空反應腔。

安裝在真空反應腔的輔助接口可實現等離子體和在線診斷等。

加載鎖可用于快速更換基底材料并與其他設備集成。





化工儀器網

采購商登錄
記住賬號    找回密碼
沒有賬號?免費注冊

提示

×

*您想獲取產品的資料:

以上可多選,勾選其他,可自行輸入要求

個人信息:

溫馨提示

該企業已關閉在線交流功能

主站蜘蛛池模板: 正蓝旗| 宁城县| 浠水县| 库尔勒市| 唐山市| 怀安县| 盐亭县| 昌都县| 济源市| 黑水县| 金寨县| 浑源县| 洪湖市| 沙雅县| 蓝田县| 萝北县| 庆安县| 手游| 正镶白旗| 广平县| 迁安市| 石门县| 桃园市| 临颍县| 石楼县| 阳谷县| 敦煌市| 揭西县| 昆山市| 邹平县| 岳西县| 滨州市| 黑龙江省| 临城县| 定结县| 上虞市| 陵水| 潢川县| 汽车| 清镇市| 台湾省|