磁控濺射鍍膜儀,熱蒸發鍍膜儀,勻膠機旋涂儀,熔煉爐,涂布機,放電等離子燒結爐,靜電紡絲機,金剛石線切割機,RTP退火爐,晶體生長爐,管式爐,CVD氣相沉積,氣氛爐,馬弗爐,熱解噴涂,等離子清洗機,
全自動多層鈣鈦礦旋涂儀勻膠機適用于鈣鈦礦材料的涂膜,半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機實現滴膠、旋涂、烘干的整個過程自動完成;可同時交替涂覆兩種薄膜,兩種液體各交替*多500次,實現千層薄膜的涂覆。本機可用于酸、堿性涂覆溶液的涂膜制備。設備標配不同尺寸的真空吸盤,可根據樣品尺寸不同選擇不同的真空吸盤,利用真空吸附的方式固定基片。該機主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。
全自動多層鈣鈦礦旋涂儀勻膠機主要特點:
1、真空吸附方式固定樣件,操作簡便。
2、使用定位工具可將樣件很容易地放在中心位置,以減少偏心而造成的震動或飛片。
3、根據樣件規格可以配用不同的吸盤,且更換方便簡單。
4、電機采用24V直流無刷電機,可靠性高,適應性強,維修與保養簡單,噪音低,震動小,運轉平穩,啟動快速穩定,加速后運行平穩,可以保證涂層厚度的一致性和均勻性。
5、采用無油真空泵,體積小巧、結構簡單、操作容易、維護方便、不會污染環境等優點。
6、腔體采用聚四氟乙烯材質,使用壽命更長,耐化學腐蝕性和優異的抗應力開裂性能;機身采用鈑金結構,結實耐用且質輕。
7、加熱后可通氣體進行快速冷卻。
8、中文操作界面(全英文操作系統可選)
9、具有開蓋保護功能,當涂膜過程中或涂膜結束時打開上蓋后機器立刻迅速減速直到停止。
10、控制界面采用觸摸屏控制,操作簡單方便,顯示直觀。
11、全自動的涂膜過程:自動滴膠、自動通氣、自動旋涂、自動烘干。
12、可兩種液體交替涂膜,*多可涂1000層薄膜。
技術參數:
產品名稱 | CY-SPC-100ML全自動多層鈣鈦礦旋轉涂層機 |
產品型號 | CY-SPC-100ML |
安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:不需要 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地。 3、氣:壓縮氣體貨自行規定的保護氣體 4、工作臺:尺寸600mm×600mm×900mm,承重50kgs以上 |
主要參數 | 、電源:主機24V 蠕動泵24V 加熱:220V 50HZ 2、功率:總功率1200W 加熱:1350W 3、旋轉轉速:500-10000rpm(*小增量為1rpm。) 4、運行程序:該機每次涂膜可分AB兩組運行程序完成,每組程序分為六段運行,每組程序可循環500次,兩組程序*多可涂1000層薄膜。 5、增減速率設置范圍:10rpm/s-2000rpm/s(增量為10的整數倍) 6、加熱功能: 加熱范圍:RT-200℃(腔體采用耐熱耐腐蝕的聚四氟材質)(碳纖維加熱管) 7、聚四氟真空吸盤和鋁制吸盤,規格:1英寸,2英寸,4英寸。 |
產品規格 | 8、產品規格: ·尺寸:旋涂機450x400x580mm;蠕動泵270x310x280mm; ·重量:50kg |