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KLA Filmetrics R50系列四探針電阻測試儀，方塊電阻測試儀可對金屬層厚度、薄膜電阻、薄膜電阻率、薄膜電導和薄膜電導率進行測繪。R54是方塊電阻測量...

KLA Tencor® P-7探針式輪廓儀為生產和研發環節提供了從幾納米到一毫米的臺階高度測量功能。該系統支持對臺階高度、粗糙度、翹曲度和應力進行二維...

KLA iMicro納米壓痕儀可輕松測量硬質涂層、薄膜和小尺寸材料等。其準確、靈活，并且用戶友好，可以提供壓痕、硬度測試、劃痕和納米級萬能試驗等多種納米力學測試...

KLA Candela® 8720表面缺陷檢測系統先進的集成式表面和光致發光(PL)缺陷檢測系統可以捕獲各種關鍵襯底和外延缺陷。采用統計制程控制(SP...

KLA Candela® 8520表面缺陷檢測系統第二代集成式光致發光和表面檢測系統，設計用于對碳化硅和氮化鎵襯底上的外延缺陷進行高級表征。采用統計制...

KLA Candela® 8420表面缺陷檢測系統它使用多通道檢測和基于規則的缺陷分類，對不透明、半透明和透明晶圓(如砷化鎵、磷化銦、鉭酸鋰、鈮酸鋰、...

KLA Filmetrics F50薄膜厚度測量儀采用自動化R-Theta平臺，支持標準和定制化樣品夾盤，最大樣品直徑達450毫米，能高效測繪薄膜厚度。該設備適...

KLA Alpha-Step®D-500探針式輪廓儀能夠測量幾納米到1200微米高的2D臺階。D-500也支持在研發和生產環節中對粗糙度、彎曲度和應力...

KLA Tencor® P-17探針式輪廓儀為生產和研發環節提供從幾納米到一毫米的臺階高度測量功能。該系統支持對臺階高度、粗糙度、翹曲度和應力進行二維...

半導體薄膜生長表面檢測KLA Alpha-Step® D-600探針式輪廓儀能夠測量從幾納米到 1200微米的2D和3D臺階高度。D-600 還支持2...

KLA Filmetrics F40薄膜厚度測量儀通過將顯微鏡轉變為薄膜測量工具，實現小至1微米光斑的厚度和折射率測量。該設備配備集成彩色攝像機，可在1秒內完成...

KLA Filmetrics F30薄膜厚度測量儀通過實時監控沉積過程，提供高精度、快速且非侵入式的測量解決方案，適用于多種半導體和電介質材料。其主要特點包括提...

KLA Filmetrics F3-sX薄膜厚度測量儀系列，涵蓋近紅外光波長范圍980 nm、1310 nm及1550 nm，能夠測量從15納米至3毫米的薄膜厚...

KLA Filmetrics F3-CS快速厚度測量系統專為微小視野及樣品設計，支持快速、簡易的厚度測量，適用于聚對二甲苯和真空鍍膜層等。其具備自動校正功能，可...

KLA Filmetrics F10-RT薄膜厚度測量儀通過同時測量反射和透射光譜，實現真空鍍膜的快速、精確分析。該設備價格合理，具備分析、FWHM確定及顏色分...

KLA Filmetrics F10-HC薄膜厚度測量儀是一款專為測量單層和多層硬涂層設計的儀器，基于F20平臺，采用光譜反射分析技術，提供快速準確的測量結果。...

KLA Filmetrics F20臺式薄膜厚度測量系統;經濟實惠的膜厚儀系列在幾秒鐘內就能完成高精度的薄膜厚度測量。這些易于使用的儀器與智能軟件和一系列附件和...

KLA Filmetrics F10-ARc薄膜厚度測量儀便攜式反射儀帶有內部光纖，利用具有長壽命、低功率光源可以測量曲面上的減反射涂層厚度。以極低的價格在幾秒...

KLA Filmetrics F10-AR薄膜厚度測量儀便攜式反射儀帶有內部光纖，利用具有長壽命、低功率光源可以測量曲面上的減反射涂層厚度。以極低的價格在幾秒鐘...

KLA NanoFlip納米壓痕儀可在真空和氣氛條件下，準確、精密地進行硬度、模量、屈服強度、剛度和其它納米力學性能的測試。無論在掃描電子顯微鏡(SEM)或是聚...