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RTP-100-真空快速退火爐
  • RTP-100-真空快速退火爐
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貨物所在地:香港香港特別行政區

地: 德國

更新時間:2025-02-04 21:00:07

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德國優尼藤專業致力于制造真空熱工藝處理設備,人性化的設計,桌面型/空間緊湊。在世界各大*大學實驗室,研究所等機構廣泛應用

德國優尼藤專業致力于制造真空熱工藝處理設備,人性化的設計,桌面型/空間緊湊。在世界各大*大學實驗室,研究所等機構廣泛應用

 

 

 

 

RTP-100/RTP-100-HV真空快速退火爐

應用于4英寸的真空/高真空快速退火應用。

 

應用領域:

  • 離子注入/接觸退火;

  • 快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN);

  • 可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同氣體氛圍環境下使用;

  • SiAu, SiAl, SiMo合金化;

  • 低介電材料;

  • 晶體化,致密化;

  • 太陽能電池片鍵合;

  • 電阻燒結

  • 其他熱工藝需求

  • 等等...

 

 

產品特點:

- 真空快速退火爐,有RTP-100型號    低真空(10-3 hPa)

                                  RTP-100-HV      高真空(10-6 hPa);

- 可應用在不同氣氛環境下使用,如惰性氣體、氧氣、氫氮混合氣等;

- 控制方式:SPS人機界面控制,7英寸觸摸屏控制;

- 可存儲50個程序,每個程序zui多分為50步驟控制;

- 全自動智能控制,包括溫度、時間、氣體流量、真空度、冷卻水均可自動設置;

- 優異的溫控均勻性,的工藝重復性;

 

技術規格:

- zui高溫度:1200℃;

- 升溫速率:150℃/秒;

- 降溫速度:200℃/分鐘 (1000℃-->400℃);

- 溫控均勻性:≤ 1.5%設定溫度;

- 加熱方式:紅外鹵素燈,頂部及底部加熱,也可單獨控制加熱

- 燈管數量及功率:18支/20KW

- 腔體冷卻:水冷方式,獨立冷卻源

- 襯底冷卻:氮氣吹掃;

- 工藝氣路:MFC控制,zui多4路 (氮氣、氬氣、氧氣、氫氮混合氣等);

 

 

參考客戶:

中科院蘇州納米所、西安交通大學、清華大學、中山大學、西安電子科技大學、中科院上海技術物理所、北京航天儀器研究所、鄭州大學、CETC13等。

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