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德國韋氏納米系統(tǒng)有限公司

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等離子清洗機真空泵

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更新時間：2025-06-06 21:00:06

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KLA/科磊: 方塊電阻測量儀薄膜厚度測量儀表面缺陷檢測系統(tǒng) 納米壓痕儀光學輪廓儀探針式輪廓儀

薄膜測量系統(tǒng): 接觸角測量系統(tǒng) 橢偏儀光譜反射儀薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng)

微組裝系統(tǒng): WB-200 半自動引線鍵合機

Deposition沉積系統(tǒng): AT-400原子層沉積

Megasonic Clean /兆聲清洗系統(tǒng): 批量型兆聲清洗系統(tǒng)

測量儀器: 聲表面波SAW功率發(fā)生器

ECOPIA/韓國: HMS-3300霍爾效應(yīng)測試儀 HMS-3000霍爾效應(yīng)測試儀

Etching/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Thin Film薄膜沉積系統(tǒng): 高密度化學氣相沉積系統(tǒng) PECVD沉積

美國杜邦Dupont: 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-CMP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Etch Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 LED, TSV, & WLP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Patterning Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Emerging Cleans

Ethcing/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Probe station/探針臺: 磁體探針臺低溫探針臺

紫外掩膜對準曝光系統(tǒng): 紫外掩膜對準曝光系統(tǒng) 紫外掩膜曝光機

快速退火爐: 快速退火爐

生命科學: 人體運動能耗監(jiān)測儀

PIE scientific/美國: Semi-KLEEN Sapphire 等離子清洗機 SEMI-KLEEN UHV等離子體清洗機 Semi-KLEEN Quartz石英等離子體清洗機 EM-KLEEN等離子體清洗機 Tergeo-EM TEM/SEM 等離子體清洗機 Tergeo-Pro桌面等離子清洗機 Tergeo-Plus桌面等離子清洗機 Tergeo桌面等離子清洗機離子源氣體混配器多用途樣品清潔及儲存腔室 TEM 樣品架真空泵站

JFP microtechnic/法國: 檢測相機返工工作站激光疊片機 / 拆片機劃刻器 MPT手動拉力測試儀焊線機芯片鍵合機

OAI/美國: Model 32 UV LED 光源 Model 30 準直紫外光源及曝光系統(tǒng) MCP-T710 電阻儀 MCP-T380通用便攜式電阻率儀 Model 659 紫外線光強與能量計 Model 308 紫外線光度計太陽能電池高性能測試夾具太陽能功率計集成式 IV 光伏測試系統(tǒng) AML 原位對準晶圓鍵合機 CPV 聚光太陽模擬器 AAA 標準太陽模擬器 Model 6020 全自動掩模曝光機 Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機 Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機 Model 800E 紫外掩膜曝光機 Model 212 紫外掩膜曝光機 Model 200 紫外掩膜曝光機

Unitemp/德國: RSS-160-SC 緊湊型回流焊系統(tǒng) 2Z-HVS-200 高真空封裝機 2Z-HVS-100 高真空封裝機 VSS-650 真空焊接系統(tǒng) RSS-3X210 緊湊型回流焊系統(tǒng) RSO-300 真空燒結(jié)爐回流焊系統(tǒng) RSO-210 真空燒結(jié)爐回流焊系統(tǒng) VSS-450-300 臺式真空燒結(jié)爐 RSS-210-S 臺式真空燒結(jié)爐回流焊系統(tǒng) RSS-110-S 迷你真空燒結(jié)爐回流焊系統(tǒng) RSS-160-S 迷你真空燒結(jié)爐回流焊系統(tǒng)

NanoMagnetics/英國: USB 光纖干涉儀 hpSPM 掃描探針顯微鏡控制器 NMI 納米定位器 NMI 振動樣品磁力計 LT-AC/DC 臺式霍爾效應(yīng)測量系統(tǒng) XYZ 低溫壓電掃描儀 mK-CFM/RAMAN 低溫顯微鏡 LT-APO 低溫物鏡 NMI 低溫恒溫器 NV-中心共聚焦低溫顯微鏡 LT-sSNOM 低溫顯微鏡 LT-SHPM/STM 低溫顯微鏡 LT-AFM/MFM 低溫顯微鏡 hpAFM 原子力顯微鏡 ezSTM 掃描隧道顯微鏡 ezAFM+ 便攜式原子力顯微鏡 ezAFM 便攜式原子力顯微鏡光霍爾效應(yīng)測試儀納秒瞬態(tài)吸收光譜儀

Reflow Oven /回流焊: 高真空MEMS焊封機

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產(chǎn)品簡介詳細介紹

等離子清洗機真空泵廠家提供詳細的特點,應(yīng)用信息。

　　等離子清洗機真空泵由真空發(fā)生系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、等離子發(fā)生器、真空腔休、機械等幾個部分組成，可以根據(jù)客戶的特殊要求定制符合客戶需要的真空系統(tǒng)，真空室。等離子清洗機可用于清洗、刻蝕、活化和表面準備等。等離子清洗機真空泵可選擇40KHz、13.56MHz和2.45GHz三種射頻發(fā)生器，以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果需要。

　　主要特點:

　　1.半導體工業(yè)用真空泵和系統(tǒng).

　　2.科研儀器,真空加工用途真空泵和系統(tǒng).

　　3.排氣控制.污水處理系統(tǒng),氣體處理系統(tǒng).

　　儀器介紹:

　　1.半導體工業(yè)用真空泵和系統(tǒng).

　　2.科研儀器,真空加工用途真空泵和系統(tǒng).

　　3.排氣控制.污水處理系統(tǒng),氣體處理系統(tǒng).

　　4.油封旋葉泵.

　　廣泛應(yīng)用于表面去油及清洗等離子刻蝕，聚四氟（PTFE）及聚四氟混合物的刻蝕、塑料、玻璃、陶瓷的表面活化和清洗、等離子涂鍍聚合等工序，因此又應(yīng)用于汽車電子領(lǐng)域、*電子領(lǐng)域、PCB制成行業(yè)等高精密度領(lǐng)域。

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