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OAI/美國: Model 32 UV LED 光源 Model 30 準直紫外光源及曝光系統 MCP-T710 電阻儀 MCP-T380通用便攜式電阻率儀 Model 659 紫外線光強與能量計 Model 308 紫外線光度計太陽能電池高性能測試夾具太陽能功率計集成式 IV 光伏測試系統 AML 原位對準晶圓鍵合機 CPV 聚光太陽模擬器 AAA 標準太陽模擬器 Model 6020 全自動掩模曝光機 Model 6000 生產型掩膜曝光機 Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機 Model 800E 紫外掩膜曝光機 Model 212 紫外掩膜曝光機 Model 200 紫外掩膜曝光機

Unitemp/德國: RSS-160-SC 緊湊型回流焊系統 2Z-HVS-200 高真空封裝機 2Z-HVS-100 高真空封裝機 VSS-650 真空焊接系統 RSS-3X210 緊湊型回流焊系統 RSO-300 真空燒結爐回流焊系統 RSO-210 真空燒結爐回流焊系統 VSS-450-300 臺式真空燒結爐 RSS-210-S 臺式真空燒結爐回流焊系統 RSS-110-S 迷你真空燒結爐回流焊系統 RSS-160-S 迷你真空燒結爐回流焊系統

NanoMagnetics/英國: USB 光纖干涉儀 hpSPM 掃描探針顯微鏡控制器 NMI 納米定位器 NMI 振動樣品磁力計 LT-AC/DC 臺式霍爾效應測量系統 XYZ 低溫壓電掃描儀 mK-CFM/RAMAN 低溫顯微鏡 LT-APO 低溫物鏡 NMI 低溫恒溫器 NV-中心共聚焦低溫顯微鏡 LT-sSNOM 低溫顯微鏡 LT-SHPM/STM 低溫顯微鏡 LT-AFM/MFM 低溫顯微鏡 hpAFM 原子力顯微鏡 ezSTM 掃描隧道顯微鏡 ezAFM+ 便攜式原子力顯微鏡 ezAFM 便攜式原子力顯微鏡光霍爾效應測試儀納秒瞬態(tài)吸收光譜儀

Reflow Oven /回流焊: 高真空MEMS焊封機

EXADDON: CERES 微納米級純金屬3D打印系統

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產品簡介詳細介紹

刻蝕顯影清洗系統廠家提供詳細的特點,應用信息。

　　刻蝕顯影清洗系統是一套脫機系統，在一個封閉的清洗室內清洗網紋輥，并由計算機控制。該系統包含一個回收裝置，去除廢料，清洗介質的表面，并允許塑料介質可以重復多次使用。該系統具有分別處理窄滾筒、中等幅寬滾筒和寬至95英寸的滾筒的機構，可以滿足各種不同的印刷需求。

　　刻蝕顯影清洗系統特點:

　　1. CIP在位清洗系統的經濟運行成本低，結構緊湊，占地面積小.安裝.維護方便，能有效地對缸罐容器及管道等生產設備進行就地清洗，其整個清洗過程均在密閉的生產設備，缸罐容器和管道中運行，從而大大減少了二次污染機會。

　　2. 可根據生產需要分為一路至四路。尤其是二路及二路以上，既能分區(qū)同時清洗同一個或二個以上區(qū)域，也能在生產過程中邊生產邊清洗。這樣在生產時就大大縮短了CIP清洗的全自動CIP清洗系統時間。

　　3. 體外循環(huán)系統，可有效減少能耗。

　　4. 回水系統，可有效減少CIP用水。

　　5. 尤其是，能對清洗液進行自動檢測.加液.排放.顯示與調整，對其運行可靠，自動化程度高，操作簡單，CIP清洗效果好，因而更符合現代大規(guī)模流體藥品.食品加工工藝的衛(wèi)生要求及生產環(huán)境要求。

　　被廣泛的用于飲料、乳品、果汁、果漿、果醬、酒類等機械化程度較高的食品飲料生產企業(yè)中。就地清洗簡稱CIP，又稱清洗定位或定位清洗（cleaning in place）。就地清洗是指不用拆開或移動裝置，即采用高溫、高濃度的洗凈液，對設備裝置加以強力作用，把與食品的接觸面洗凈,對衛(wèi)生級別要求較嚴格的生產設備的清洗、凈化。

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