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德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)有限公司

中級(jí)會(huì)員 | 第9年

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濕法刻蝕系統(tǒng)

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產(chǎn)品分類品牌分類

KLA/科磊: 方塊電阻測(cè)量?jī)x 薄膜厚度測(cè)量?jī)x 表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng) 納米壓痕儀光學(xué)輪廓儀探針式輪廓儀

薄膜測(cè)量系統(tǒng): 接觸角測(cè)量系統(tǒng) 橢偏儀光譜反射儀薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)

微組裝系統(tǒng): WB-200 半自動(dòng)引線鍵合機(jī)

Deposition沉積系統(tǒng): AT-400原子層沉積

Megasonic Clean /兆聲清洗系統(tǒng): 批量型兆聲清洗系統(tǒng)

測(cè)量?jī)x器: 聲表面波SAW功率發(fā)生器

ECOPIA/韓國(guó): HMS-3300霍爾效應(yīng)測(cè)試儀 HMS-3000霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

Etching/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Thin Film薄膜沉積系統(tǒng): 高密度化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) PECVD沉積

美國(guó)杜邦Dupont: 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-CMP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Etch Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 LED, TSV, & WLP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Patterning Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Emerging Cleans

Ethcing/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Probe station/探針臺(tái): 磁體探針臺(tái) 低溫探針臺(tái)

紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng): 紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng) 紫外掩膜曝光機(jī)

快速退火爐: 快速退火爐

生命科學(xué): 人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀

PIE scientific/美國(guó): Semi-KLEEN Sapphire 等離子清洗機(jī) SEMI-KLEEN UHV等離子體清洗機(jī) Semi-KLEEN Quartz石英等離子體清洗機(jī) EM-KLEEN等離子體清洗機(jī) Tergeo-EM TEM/SEM 等離子體清洗機(jī) Tergeo-Pro桌面等離子清洗機(jī) Tergeo-Plus桌面等離子清洗機(jī) Tergeo桌面等離子清洗機(jī) 離子源氣體混配器多用途樣品清潔及儲(chǔ)存腔室 TEM 樣品架真空泵站

JFP microtechnic/法國(guó): 檢測(cè)相機(jī) 返工工作站激光疊片機(jī) / 拆片機(jī) 劃刻器 MPT手動(dòng)拉力測(cè)試儀焊線機(jī) 芯片鍵合機(jī)

OAI/美國(guó): Model 32 UV LED 光源 Model 30 準(zhǔn)直紫外光源及曝光系統(tǒng) MCP-T710 電阻儀 MCP-T380通用便攜式電阻率儀 Model 659 紫外線光強(qiáng)與能量計(jì) Model 308 紫外線光度計(jì) 太陽(yáng)能電池高性能測(cè)試夾具太陽(yáng)能功率計(jì) 集成式 IV 光伏測(cè)試系統(tǒng) AML 原位對(duì)準(zhǔn)晶圓鍵合機(jī) CPV 聚光太陽(yáng)模擬器 AAA 標(biāo)準(zhǔn)太陽(yáng)模擬器 Model 6020 全自動(dòng)掩模曝光機(jī) Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機(jī) Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機(jī) Model 800E 紫外掩膜曝光機(jī) Model 212 紫外掩膜曝光機(jī) Model 200 紫外掩膜曝光機(jī)

Unitemp/德國(guó): RSS-160-SC 緊湊型回流焊系統(tǒng) 2Z-HVS-200 高真空封裝機(jī) 2Z-HVS-100 高真空封裝機(jī) VSS-650 真空焊接系統(tǒng) RSS-3X210 緊湊型回流焊系統(tǒng) RSO-300 真空燒結(jié)爐回流焊系統(tǒng) RSO-210 真空燒結(jié)爐回流焊系統(tǒng) VSS-450-300 臺(tái)式真空燒結(jié)爐 RSS-210-S 臺(tái)式真空燒結(jié)爐回流焊系統(tǒng) RSS-110-S 迷你真空燒結(jié)爐回流焊系統(tǒng) RSS-160-S 迷你真空燒結(jié)爐回流焊系統(tǒng)

NanoMagnetics/英國(guó): USB 光纖干涉儀 hpSPM 掃描探針顯微鏡控制器 NMI 納米定位器 NMI 振動(dòng)樣品磁力計(jì) LT-AC/DC 臺(tái)式霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng) XYZ 低溫壓電掃描儀 mK-CFM/RAMAN 低溫顯微鏡 LT-APO 低溫物鏡 NMI 低溫恒溫器 NV-中心共聚焦低溫顯微鏡 LT-sSNOM 低溫顯微鏡 LT-SHPM/STM 低溫顯微鏡 LT-AFM/MFM 低溫顯微鏡 hpAFM 原子力顯微鏡 ezSTM 掃描隧道顯微鏡 ezAFM+ 便攜式原子力顯微鏡 ezAFM 便攜式原子力顯微鏡光霍爾效應(yīng)測(cè)試儀納秒瞬態(tài)吸收光譜儀

Reflow Oven /回流焊: 高真空MEMS焊封機(jī)

EXADDON: CERES 微納米級(jí)純金屬3D打印系統(tǒng)

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介詳細(xì)介紹

濕法刻蝕系統(tǒng)廠家提供詳細(xì)的構(gòu)造,特點(diǎn)信息。

　　濕法刻蝕系統(tǒng)的設(shè)備是由全白色聚丙烯構(gòu)造，可內(nèi)置任何旋涂機(jī)及顯影機(jī)，排放簡(jiǎn)便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統(tǒng)，可選擇WS-1000M濕法刻蝕設(shè)備，WS-1000系列旋轉(zhuǎn)處理濕法設(shè)備可以被配置成測(cè)試模塊構(gòu)造，安裝簡(jiǎn)便，易于拆卸，更便于操作者控制。

　　濕法刻蝕系統(tǒng)的設(shè)備特點(diǎn)：

　　● 全PP材質(zhì)構(gòu)造

　　● 可集成Laurell勻膠旋涂系統(tǒng)

　　● 有排孔的濕站操作臺(tái) (易清潔)

　　● 特殊設(shè)計(jì)的濕站壓力系統(tǒng)Wet plenum

　　● 帶流量計(jì)的排液管道

　　● 各類組件的隔離設(shè)計(jì)（散熱原件，泵浦和壓力容器等）

　　的設(shè)備材料選擇：可以根據(jù)應(yīng)用選擇更高級(jí)的材料；

　　● WS-1000-CP5 符合SEMI S93標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)用在消防安全和潔凈空間等領(lǐng)域。CP5符合UL94 V-O 火災(zāi)分類標(biāo)準(zhǔn)。它具有優(yōu)良的平衡的物理性能，耐化學(xué)藥品性和耐火性。

　　● WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合zui嚴(yán)格的FMRC 4910測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)，滿足多方面條件下的難燃性，自熄特點(diǎn)和*燃燒。這種*進(jìn)的材料也達(dá)到或超過(guò)產(chǎn)生低煙和zui小毒副產(chǎn)品的檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)。



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