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德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第9年

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EFC270-蝕刻殘留物去除劑
  • EFC270-蝕刻殘留物去除劑
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更新時(shí)間:2025-05-15 21:00:07

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EXADDON
杜邦蝕刻殘留物去除液

 

 

杜邦™plasmasolv®ekc265™蝕刻后殘留物去除            

特點(diǎn):

制定zui jia的金屬堆棧完整性  

“改進(jìn)”寬窗口處理能力

強(qiáng)化蝕刻殘余物去除

清洗的掩膜減少化學(xué)殘留

超大規(guī)模集成電路(ULSI)級(jí)規(guī)格*進(jìn)封裝清洗

工作溫度下蒸發(fā)速率低

 

應(yīng)用:        

應(yīng)用EKC265™蝕刻后殘留物器廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體行業(yè),以滿足關(guān)鍵的清潔需求            

從高深寬比MEMS器件100μm+ 到*進(jìn)DRAM 的70nm集成的各個(gè)階段

下面列出了常見(jiàn)的應(yīng)用程序: 

  • 接觸清潔            

  • 金屬線清潔

  • TSV深硅穿孔清潔           

  • 鎢埋位線清洗            

  • 聚酰亞胺清洗            

  • Pad清潔            

  • MEMS清洗

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