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TEM cube多用途樣品清潔及儲存腔室可用于在高真空下存儲多達 8 個 TEM 樣品架（極限真空在 10 -7 Torr 范圍內）。真空度足夠高，可以檢查原位...

TEM 樣品架真空泵站可在真空條件下存儲多達六個 TEM 樣品架，以幫助樣品和樣品架放氣，去除水凝結，并保持樣品和支架清潔。它還可用于試樣夾具座的泄漏檢查。

關于Ion Source離子源等離子離子源 LMIS 和 GFIS 是三種常見的離子源類型。LMIS 和 GFIS 具有出色的源亮度。因此，它們被廣泛用于高分辨...

Gas Mixers氣體混配器用于 SEMI-KLEEN 和 EM-KLEEN 系列遠程等離子源

AS-One systems快速退火爐是專門為滿足大學、研究實驗室和小規模生產的需求而研制的，高可靠且性價比高。該工藝室采用貝殼式設計，可*進入底板，方便裝載和...

ECOPIA公司的HMS系列高溫霍爾效應測試儀，霍爾效應系統，霍爾效應測量系統主要由恒電流源、范德堡法則終端轉換器、低溫（77K）測量系統及磁場強度輸入系統組成...

霍爾效應測試儀，霍爾效應系統主要用于測量半導體材料的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數、導電類型等重要參數，而這些參數是了解半導體材料電學特性必須預先掌控的，...

Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統可以在緊湊的平臺上生產高品質的薄膜。*的反應器設計可以在在極低的功率生產具有優異臺階覆蓋的低應力薄膜。該系...

等離子刻蝕ICP基片通過預真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產品接觸，從而提高了用戶安全性。預真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而隔絕外部濕氣，防...

OAI 200型光刻機和紫外掩膜曝光系統是一種經濟高效的高性能工具，采用行業驗證的模塊化組件進行設計，使OAI成為MEMS，納米技術和半導體設備行業的ling ...

全新設計的WB-200型半自動細絲鍵合機非常適合實驗室研發，產品原型試產，產品評估，產品返修等在有限預算下，同時必須要保證高質量鍵合的用戶。

KLA Filmetrics R50系列四探針電阻測試儀，方塊電阻測試儀可對金屬層厚度、薄膜電阻、薄膜電阻率、薄膜電導和薄膜電導率進行測繪。R54是方塊電阻測量...

KLA Tencor® P-7探針式輪廓儀為生產和研發環節提供了從幾納米到一毫米的臺階高度測量功能。該系統支持對臺階高度、粗糙度、翹曲度和應力進行二維...

KLA iMicro納米壓痕儀可輕松測量硬質涂層、薄膜和小尺寸材料等。其準確、靈活，并且用戶友好，可以提供壓痕、硬度測試、劃痕和納米級萬能試驗等多種納米力學測試...

KLA Candela® 8720表面缺陷檢測系統先進的集成式表面和光致發光(PL)缺陷檢測系統可以捕獲各種關鍵襯底和外延缺陷。采用統計制程控制(SP...

KLA Candela® 8520表面缺陷檢測系統第二代集成式光致發光和表面檢測系統，設計用于對碳化硅和氮化鎵襯底上的外延缺陷進行高級表征。采用統計制...

KLA Candela® 8420表面缺陷檢測系統它使用多通道檢測和基于規則的缺陷分類，對不透明、半透明和透明晶圓(如砷化鎵、磷化銦、鉭酸鋰、鈮酸鋰、...

KLA Filmetrics F50薄膜厚度測量儀采用自動化R-Theta平臺，支持標準和定制化樣品夾盤，最大樣品直徑達450毫米，能高效測繪薄膜厚度。該設備適...

薄膜應力測量系統：在硅片等基板上附膜時，由于基板和薄膜的物理定數有異，產生應力，進而引起基板變形。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現為基板的翹曲，而薄膜應力測量裝...

KLA Alpha-Step®D-500探針式輪廓儀能夠測量幾納米到1200微米高的2D臺階。D-500也支持在研發和生產環節中對粗糙度、彎曲度和應力...